== Beschreibung == Bei der fotolitografischen Abbildung einer Struktur mit Dimensionen im Bereich und unterhalb der verwendeten Wellenlänge, wie sie seit einigen Jahren in der Mikroelektronik der Fall ist, entstehen insbesondere durch wellenoptische Effekte (z. B. Beugung) Abbildungsfehler. Die OPC versucht diese Effekte, wie Linienendenverkürzu...
(OPC) Optische Nahbereichskorrektur.
(OPC) Optische Nahbereichskorrektur.